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日本ゼオンが従来と異なる視点で最先端の半導体材料の開発をさらに進める。電子線レジストで採用する主鎖切断型の技術で参入を目指すのがEUV(極紫外線)レジスト市場。微細化の追い風を生かし、既存の化学増幅型の代替を狙う。そのほかCOP(シクロオレフィンポリマー)を用いた高透明の感光性絶縁膜、…