JX金属は3月16日、米国アリゾナ州での半導体製造用スパッタリングターゲット工場建設に続き、茨城県ひたちなか市にも、半導体製造用スパッタリングターゲット工場を建設するべく、用地を取得したことを発表した。 取得用地の敷地面積は24万m2で、設備に対する投資の詳細は今後決定することにしているが…
JX金属は3月16日、米国アリゾナ州での半導体製造用スパッタリングターゲット工場建設に続き、茨城県ひたちなか市にも、半導体製造用スパッタリングターゲット工場を建設するべく、用地を取得したことを発表した。 取得用地の敷地面積は24万m2で、設備に対する投資の詳細は今後決定することにしているが…