高品質な第3世代酸化ガリウム100mmエピウェハの開発にノベルクリスタルなどが成功 （マイナビ）

ノベルクリスタルテクノロジーは3月14日、佐賀大学と共同でキラー欠陥を従来の10分の1に低減させた第3世代酸化ガリウム100mmエピウェハの開発したことを発表した。 試作された第3世代β-Ga2O3100mmエピウェハを用いたショットキーバリアダイオード。最大チップサイズは10mm×10mm (出所:NEDO Webサイト…