AGCは、最先端の半導体製造プロセスである極端紫外線（EUV）露光用部材の生産能力を2024年までに現在の2倍に増強する。23年1月から段階的に増強する。対象は、シリコンウエハー上への回路図の転写に用いられるフォトマスクブランクス。生産能力と投資額は非公表。供給を拡大し、同製品の売上高を現在の…
AGCは、最先端の半導体製造プロセスである極端紫外線（EUV）露光用部材の生産能力を2024年までに現在の2倍に増強する。23年1月から段階的に増強する。対象は、シリコンウエハー上への回路図の転写に用いられるフォトマスクブランクス。生産能力と投資額は非公表。供給を拡大し、同製品の売上高を現在の…