Intel、オハイオ州に200億ドル超投資の大規模半導体工場建設へ （ITmedia）

米Intelは1月21日（現地時間）、米オハイオ州に2つの新たな最先端半導体工場を建設するために、200億ドル（約2.3兆円）以上の初期投資を行うと発表した。同地域での人材育成などのために、さらに1億ドルの投資も約束した。 オハイオ州リッキング郡に予定する2つの最先端工場は、約1000エーカー（約4平…