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次世代メモリ開発の加速に向けSOT方式に適した新材料を東工大などが開発
Posted by
Wpmaster
02/16/2022
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東京工業大学(東工大)は2月15日、高いスピン流生成効率と高い熱耐久性を両立するハーフホイスラー型ト…
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